【摘 要】
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为了准确评估工艺参数偏差对电路延时的影响,该文提出一种考虑空间关联工艺偏差的统计静态时序分析方法。该方法采用一种考虑非高斯分布工艺参数的二阶延时模型,通过引入临时
【机 构】
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中国科学院电子学研究所,中国科学院大学
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为了准确评估工艺参数偏差对电路延时的影响,该文提出一种考虑空间关联工艺偏差的统计静态时序分析方法。该方法采用一种考虑非高斯分布工艺参数的二阶延时模型,通过引入临时变量,将2维非线性模型降阶为1维线性模型;再通过计算到达时间的紧密度概率、均值、二阶矩、方差及敏感度系数,完成了非线性非高斯延时表达式的求和、求极大值操作。经ISCAS89电路集测试表明,与蒙特卡洛仿真(MC)相比,该方法对应延时分布的均值、标准差、5%延时点及95%延时点的平均相对误差分别为0.81%,-0.72%,2.23%及-0.05%,而运行时间仅为蒙特卡洛仿真的0.21%,证明该方法具有较高的准确度和较快的运行速度。
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