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采用磁过滤直流阴极真空弧源沉积技术，通过改变基体偏压，在单晶Si片和0Cr19Ni9基体表面制备了C／C多层类金刚石薄膜。为了考察多层膜的热稳定性，对薄膜进行了300％及400％退火处理，采用x射线光电子能谱、硬度实验及摩擦磨损性能测试分析了退火对薄膜结构及性能的影响。结果表明在400％范围内多层膜具有较高的热稳定性。