【摘 要】
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1 电子束曝光机 日本日立制作所研制成HL—800DI和HL-800DⅡ电子束直接作图装置。这种装置是在可变矩形束的基础上,采用自投影方式,使生产率大幅度提高,可作为64M～256MDRAM的
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1 电子束曝光机 日本日立制作所研制成HL—800DI和HL-800DⅡ电子束直接作图装置。这种装置是在可变矩形束的基础上,采用自投影方式,使生产率大幅度提高,可作为64M～256MDRAM的曝光装置,用于存储器和ASlC的大批量生产。生产率为每小时可曝光20片ULSl储存器圆片。
1 electron beam exposure machine Japan’s Hitachi Ltd. developed HL-800DI and HL-800D Ⅱ electron beam direct mapping device. This device is based on the variable rectangular beam, using self-projection mode, so that productivity increased significantly, as a 64M ~ 256MDRAM exposure device for memory and ASlC mass production. Productivity of 20 ULSl storage wafers can be exposed per hour.
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