【摘 要】
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在恒定气压和电压条件下,用测量溅射减量的方法,系统研究了Cr—Fe,Bi-Sb,Cu—Zn,Ag—Cu,Al-Zn和Cd—Sn六个系统的25个试样在辉光放电灯中溅射率与组分的关系结果表明;阴极溅
【机 构】
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中国科学院金属研究所rrrrrrrrrn,中国科学院金属研究所,上海工业大学rrrrrrrrrn,上海工业大学rrrrrrrrrn,上海工业
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在恒定气压和电压条件下,用测量溅射减量的方法,系统研究了Cr—Fe,Bi-Sb,Cu—Zn,Ag—Cu,Al-Zn和Cd—Sn六个系统的25个试样在辉光放电灯中溅射率与组分的关系结果表明;阴极溅射在稳态时,二元合金(不形成金属间化合物)的溅射率与组元浓度的普遍关系是双曲线,只有在某些特殊情况下,两组元的溅射率相差不大时,可以近似看成线性关系。
Under the condition of constant pressure and voltage, 25 samples of six systems of Cr-Fe, Bi-Sb, Cu-Zn, Ag-Cu, Al-Zn and Cd- The relationship between sputtering rate and composition in a glow discharge lamp shows that the general relationship between sputtering rate and element concentration of binary alloys (no intermetallic compounds) at cathode sputtering at steady state is hyperbola , Only in some special cases, the two components of the sputtering rate difference is not large, can be approximated as a linear relationship.
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