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Deposition of SiC thin films using pulsed sputtering of a hollow cathode
【机 构】
:
DepartmentofElectricalEngineering,InstituteofPhysics
【出 处】
:
材料科学与工程:中英文版
【发表日期】
:
2009年8期
【基金项目】
:
Acknowledgments: This work was supported in part by the Air Force Office of Scientific Research (No. FA9550-07-1-0539) and by the Department of Electrical Engineering on the University of Nebraska. Ad
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