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对应用于193nm反射膜的基底材料、薄膜材料、沉积技术与主要沉积工艺参数进行了分析与优化选择,在此基础上进行了193nm反射膜的设计、制备及后处理,实现了时间稳定性与环境稳定性良好的193nm反射膜,反射率达98%以上。
高反射率193nm反射膜的实现
【摘 要】
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对应用于193nm反射膜的基底材料、薄膜材料、沉积技术与主要沉积工艺参数进行了分析与优化选择,在此基础上进行了193nm反射膜的设计、制备及后处理,实现了时间稳定性与环境稳
【机 构】
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华东理工大学机械与动力工程学院承压系统安全科学教育部重点实验室,华东理工大学机械与动力工程学院承压系统安全科学教育部重点实验室,中国科学院上海光学精密机械研究所,中国科学院上海光学精密机械研究所 上海
【出 处】
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应用激光
【发表日期】
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2008年01期
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