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同步辐射光刻技术是Ｘ射线光刻技术的重要发展，适用于深亚微米乃至纳米图形的超微细加工，特别是ＬＩＧＡ的出现大大拓展了同步辐射光刻的应用领域，使它不仅适合于超大规模集成电路等平面微结构的加工，也适合于具有复杂构造的三维立体结构和器件的制作，文章简要介绍了ＮＳＲＬ光刻光束线和实验站概况及研究工作进展。