Interfacial Electronic Structure of Thin Cu Films Grown on Ar^＋—ion Sputter—cleaned α—Al2O3 Substrat

来源 :材料科学技术：英文版 | 被引量 : 0次 | 上传用户：WXY0216

【摘要】

：

The bonding and electronic structure of Cu/(0001)Al2O3 and Cu/(1120)Al2O3 interfaces has been studied experimentally using spatially-resolved transmission elec

【作者】

：

ChristinaScheu MiGao 等

【机构】

：

Max-Planck-InstitutfuerMetallforschungSeestr.92

【出处】

：

材料科学技术：英文版

【发表日期】

：

2002年2期

【关键词】

：

氧化铝基底铜薄膜薄膜生长电子结构 Electronic structure Cu film Ion sputtering α-Al2O3

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The bonding and electronic structure of Cu/(0001)Al2O3 and Cu/(1120)Al2O3 interfaces has been studied experimentally using spatially-resolved transmission electron energy loss spectroscopy.The specimen were prepared by depositing Cu on single-crystal α-A

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