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氧气分压对磁控溅射法制备ZAO膜的影响
氧气分压对磁控溅射法制备ZAO膜的影响
来源 :武汉理工大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:testsininet
【摘 要】
:
利用直流磁控溅射技术在无机玻璃衬底上制备了ZAO透明导电薄膜.研究了溅射过程中氧气分压对ZAO薄膜的结构和光电特性的影响,结果表明:当氧气分压为0 Pa时,薄膜结晶度良好,具
【作 者】
:
余俊
赵青南
赵修建
【机 构】
:
武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部重点实验室
【出 处】
:
武汉理工大学学报
【发表日期】
:
2005年1期
【关键词】
:
磁控溅射
ZAO薄膜
氧气分压
rf sputtering TiO_2-CeO_2 films ultraviolet-shielding coating gl
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利用直流磁控溅射技术在无机玻璃衬底上制备了ZAO透明导电薄膜.研究了溅射过程中氧气分压对ZAO薄膜的结构和光电特性的影响,结果表明:当氧气分压为0 Pa时,薄膜结晶度良好,具有最小电阻率和较高的可见光透过率.
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