【摘 要】
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本文针对在Low-E膜系设计及生产过程中对获悉透明介质层光学厚度的需求,提出依据柯西光学模型利用遗传算法分析膜层的光学厚度的方法。讨论了柯西光学模型及Low-E膜系中介质
【机 构】
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中国建筑材料科学研究总院,绿色建筑材料国家重点实验室
【基金项目】
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国家“十二五”科技支撑计划项目(2013BAE12B01),国家自然科学基金(51272245)
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本文针对在Low-E膜系设计及生产过程中对获悉透明介质层光学厚度的需求,提出依据柯西光学模型利用遗传算法分析膜层的光学厚度的方法。讨论了柯西光学模型及Low-E膜系中介质膜层的特点,根据遗传算法原理建立膜层光学厚度分析流程,在此基础上讨论了遗传算法主要参数对结果的影响,种群大小为35个个体、遗传迭代40次、精英数量为8个、交叉因素0.2为最佳的遗传条件。根据实际生产的膜层膜面反射光谱特征,设立合理的初始值,可以使计算分析结果更接近测试值。另外,研究表明利用膜面反射光谱作为分析依据更为合理。
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