Effects of Cr dopant on microstructure and properties of Cu films on Si（100）

来源 :Transactions of Nonferrous Metals Society of China | 被引量 : 0次 | 上传用户：hejunfeng206

【摘要】

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The thin films of pure Cu and Cu-2.18%Cr(mole fraction,%) were deposited on Si(100) substrates. Then the samples were vacuum-annealed at 573-773 K to investigat

【作者】

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王新建董显平刘嘉聪姜传海

【机构】

：

KeyLaboratoryoftheMinistryofEducationforHighTemperatureMaterialsandTesting

【出处】

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Transactions of Nonferrous Metals Society of China

【发表日期】

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2007年A02期

【关键词】

：

铜薄膜铬掺杂微观结构热稳定性 Cu（Cr） films annealing texture thermal stability segregati

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The thin films of pure Cu and Cu-2.18%Cr(mole fraction,%) were deposited on Si(100) substrates. Then the samples were vacuum-annealed at 573-773 K to investigate the effect of Cr on the microstructural and electrical characteristics of Cu/Si systems. The

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