【摘 要】
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用Ｘ射线方法研究了平行于基带表面的Ｎｉ（２０Ｏ），Ｎｉ（１１１），ＮｉＯ（２００）和ＮｉＯ（１１１）晶面的取向分数Ｗ。结果表明，随预热处理温度的提高，虽然Ｗ_（ＮｉＯ（２００））也会随之提高，但是区域重加热处理对提高Ｗ_（ＮｉＯ（２００））起着最重要的作用。９００℃预热处理之后，在１１００℃进行
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用Ｘ射线方法研究了平行于基带表面的Ｎｉ（２０Ｏ），Ｎｉ（１１１），ＮｉＯ（２００）和ＮｉＯ（１１１）晶面的取向分数Ｗ。结果表明，随预热处理温度的提高，虽然Ｗ_（ＮｉＯ（２００））也会随之提高，但是区域重加热处理对提高Ｗ_（ＮｉＯ（２００））起着最重要的作用。９００℃预热处理之后，在１１００℃进行区域重加热可使Ｗ_（ＮｉＯ（２００））提高到０．９９以上。
The orientation fraction (W) of Ni (20O), Ni (111), NiO (200) and NiO (111) planes parallel to the surface of the substrate was investigated by X-ray diffraction. The results show that W_ (NiO (200)) increases with the increase of preheating temperature, but the region reheating plays the most important role in increasing W_ (NiO (200)). After preheating at 900 ℃, W_ (NiO (200)) can be increased to above 0.99 by zone reheating at 1100 ℃.
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