【摘 要】
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用直流反应磁控溅射法在浮法玻璃基片上制备了TiN薄膜.镀膜试样在大气环境下分别经520C、570℃和620℃热处理10 min.用X射线光电子能谱(XPS)得到的结果显示,经520℃热处理的
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用直流反应磁控溅射法在浮法玻璃基片上制备了TiN薄膜.镀膜试样在大气环境下分别经520C、570℃和620℃热处理10 min.用X射线光电子能谱(XPS)得到的结果显示,经520℃热处理的试样,TiN薄膜上出现了TiNxOy层.经570℃热处理的试样,TiN薄膜上的TiNxOy成分减少,TiO2的含量增加,620 C热处理的试样表面上主要是TiO2.570℃和620℃热处理的试样表面上存在少量来源于TiN热氧化分解的单质氮.
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