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本文介绍了一种全干法二步刻蚀制造高发射效率的场发射阵列的方法。
等离子刻蚀制造硅场发射阵列
【摘 要】
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本文介绍了一种全干法二步刻蚀制造高发射效率的场发射阵列的方法。
【机 构】
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华东师范大学电子科学技术系
【出 处】
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微细加工技术
【发表日期】
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1998年1期
【基金项目】
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国家自然科学基金,中科院上海冶金所功能材料实验室资助
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