侧位甲基含氟三苯二炔类液晶化合物合成及其性质研究

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三苯二炔类液晶化合物因具有双折射率(△n)高、向列相温度范围宽等特性而受到研究人员的重视。研究采用Sonogashira偶联法合成了4种苯基含氟和甲基的三苯二炔类液晶化合物(Ⅵ),合成总产率达到20%,IR和NMR测试结果表明这些化合物的结构正确。对目标化合物的物化性质进行测试,结果表明,这些化合物具有较高的△n(〉0.42)和相对较低的熔点(72—83℃)以及较宽的向列相温度范围(60—100℃)。将这些化合物应用于液晶器件中,对于提高器件的响应性能具有积极意义。
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