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以ＳｎＣｌ４－Ｈ２Ｏ－Ｎ２作为实验体系，采用流态化ＣＶＤ技术制备了超Ａｌ２Ｏ３－ＳｎＯ２复合粒子。利用透射电子显微镜，Ｘ荧光光谱仪、高分辨电子显微镜等现代测试手段考察了ＳｎＯ２在Ａｌ２Ｏ３表面的分散形态及操作参数对ＳｎＯ２成膜与成核的影响，讨论了化学气相包覆过程机理。
流态化CVD技术制备超细Al2O3—SnO2复合粒子的过程机理
【摘 要】
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以ＳｎＣｌ４－Ｈ２Ｏ－Ｎ２作为实验体系，采用流态化ＣＶＤ技术制备了超Ａｌ２Ｏ３－ＳｎＯ２复合粒子。利用透射电子显微镜，Ｘ荧光光谱仪、高分辨电子显微镜等现代测试手段考察了ＳｎＯ２在Ａｌ２Ｏ３表面的分散形态及操作参数对ＳｎＯ２成膜与成核的影响，讨论
【机 构】
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华东理工大学技术化学物理所
【出 处】
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化工学报
【发表日期】
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1994年6期
【基金项目】
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国家自然科学基金资助项目
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