Au／NiCr／Ta多层金属膜择优取向与残余应力的关系

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【摘要】

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研究了Au/NiCr/Ta多层金属膜的择优取向、残余应力以及它们之间的关系.结果表明,在实验范围内,残余应力随沉积温度变化不大,沉积态薄膜均表现为残余拉应力,经400℃Ar气中退火

【作者】

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唐武徐可为王平李弦

【机构】

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西安交通大学金属材料强度国家重点实验室,西安空间无线电技术研究所

【出处】

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金属学报

【发表日期】

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2002年9期

【关键词】

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Au/NiCr/Ta多层金属膜择优取向残余应力微波集成电路 Au/NiCr/Ta film preferred orientation residual

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研究了Au/NiCr/Ta多层金属膜的择优取向、残余应力以及它们之间的关系.结果表明,在实验范围内,残余应力随沉积温度变化不大,沉积态薄膜均表现为残余拉应力,经400℃Ar气中退火60 min转变为压应力.相应出现(111)与(200)衍射峰相对强度比值减小.Au(200)取向增加时,倾向为压应力,择优取向最大时有最低的平均残余压应力;Au(111)择优取向最大时有最高的平均残余拉应力;说明Au膜的择优取向和残余应力状态存在一定的联系.

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