金刚石薄膜绝缘电阻的时间效应与表面处理

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本文研究了常规热丝CVD法生长的金刚石薄膜的绝缘电阻特性,发现薄膜从反应室取出后其电阻会随时间降低至某一稳定值(时间效应).用浓硫酸和双氧水的混合液、或氩等离子体对薄膜进行表面处理,可以提高电阻5~6个数量级,且不再随时间变化;而氩气气氛下的加热处理效果不大.文中还提出了产生电阻时间效应的原因和提高薄膜绝缘电阻的方法. In this paper, the insulation resistance characteristics of diamond films grown by conventional hot filament CVD method were studied. It was found that the resistance of the diamond films decreased to some stable value (time effect) with the passage of time from the reaction chamber. Surface treatment of the thin film with a mixture of concentrated sulfuric acid and hydrogen peroxide, or argon plasma, can improve the resistance of 5 to 6 orders of magnitude, and no longer changes with time; and under Argon heating is not effective. The paper also presents the reasons for the resistance time effect and the method of improving the film insulation resistance.
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