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采用恒电位法在镀镍工件表面常4备聚8-羟基喹啉薄膜。研究了沉积电位、8-羟基喹啉浓度、NaOH浓度、沉积时间等工艺条件对薄膜耐蚀性的影响。分别采用盐水周浸泡试验、三氯化铁缝隙试验和Tafel极化曲线法对比研究了恒电位法电沉积试样、循环伏安法电沉积试样和空白工件的耐蚀性。采用扫描电镜表征了聚8-羟基喹啉薄膜的表面形貌。恒电位法沉积的最佳工艺条件为：8-羟基喹啉2mmol／L，NaOH 0．4mol／L，电位0．5V，时间300s，室温。采用最佳工艺所得薄膜的耐蚀性略优于循环伏安法试样，远优于空白工件。