纳米硅/氮化硅薄膜微结构特性研究

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【摘要】

：

本工作采用螺旋波增强等离子体化学气相沉积(HWP-CVD)技术制备了不同结构的纳米硅/氮化硅镶嵌复合薄膜,并主要关注热退火处理对镶嵌于氮化硅中纳米硅微观结构调整的研究。采用多种检测手段,对薄膜的表面形貌、键合结构、物相特征及能带特性等进行表征与分析,并重点对薄膜的微观结构特性进行了详细探讨,寻求纳米硅薄膜微结构调整与改善的条件。取得的主要结果如下：通过合理控制HWP-CVD的实验参量,实现了镶嵌在

【作者】

：

齐文皓

【机构】

：

河北大学

【发表日期】

：

2009年06期

【关键词】

：

纳米硅结构氮化硅薄膜常规热退火快速光热退火

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