【摘 要】
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脉冲激光沉积技术(Pulsed Laser Deposition简称PLD)自20世纪60年代世界上出现了第一台红宝石激光器起开始萌芽,一直比较缓慢地发展.直到1987年,高Tc超导氧化物薄膜在贝尔实
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脉冲激光沉积技术(Pulsed Laser Deposition简称PLD)自20世纪60年代世界上出现了第一台红宝石激光器起开始萌芽,一直比较缓慢地发展.直到1987年,高Tc超导氧化物薄膜在贝尔实验室制备成功,PLD技术引起了人们的广泛关注并迅速发展起来.这项技术较其他薄膜制备技术有激光能量高、薄膜的化学成分比与靶材一致、沉积速率高、基片温度要求低等优点,因此成功的制各了多种铁电、压电等功能薄膜材料.在PLD技术制备薄膜的过程中,会出现很多复杂而有趣的物理现象,因此人们开始了针对PLD技术制膜机理的研究.20世纪90年代建立的S-N模型,是一个比较完整地描述PLD制膜全过程,具有突破意义.该组近年来曾用此技术成功的制各了KTN薄膜,并由此展开了对制膜机理的研究,建立的Zhang-Li模型对激光烧蚀靶材过程、等离子体在空间的膨胀和薄膜沉积特性进行了详细的研究,建立了一套比较完整的理论来描述PLD的物理过程.
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