硅基MEMS微半球阵列三维结构的设计与制备

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【摘要】

：

MEMS器件的制作离不开湿法腐蚀技术,湿法腐蚀技术制作成本低廉且工艺简单。本文对硅的氧化、光刻和湿法腐蚀都做了相关的研究,尤其对硅的光刻和湿法腐蚀进行研究,利用三步光刻和四步湿法腐蚀的方法制备硅基MEMS微半球阵列三维结构。设计了独特的光刻步骤和湿法腐蚀实验,对硅基在不同的腐蚀温度和不同的腐蚀时间的腐蚀行为作出相关研究并发现了该腐蚀环境下的削角效应,得到在70℃恒温环境中,25%四甲基氢氧化铵(T

【作者】

：

李达波

【机构】

：

中国计量大学

【发表日期】

：

2018年01期

【关键词】

：

MEMS器件三维结构光刻湿法腐蚀四甲基氢氧化铵曲拉通X-100

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