纳米金刚石膜的p型掺杂与电性能检测

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【摘要】

：

纳米金刚石(Nano-crystalline Diamond,NCD)薄膜原位掺硼后具有p型半导体的特性,可以作为大功率半导体器件的p型层应用到半导体领域。本文主要采用微波等离子体化学气相沉积法沉积NCD薄膜本征层,然后在该本征层上进行掺硼实验,并对其中的内在规律和微观机理进行探讨,实验结果将为纳米金刚石基半导体器件的制作提供实验指导。在NCD薄膜本征层的制备过程中发现,较高甲烷浓度(8%)时等离

【作者】

：

彭环洋

【机构】

：

武汉工程大学

【发表日期】

：

2017年05期

【关键词】

：

纳米金刚石薄膜硼掺杂微波等离子体化学气相沉积晶粒尺寸表面电阻空穴迁移率

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