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高纯四氟化硅气体,是制备硅烷、晶体硅、光纤等的重要原料。我国拥有丰富萤石资源和磷矿,SiF_4气体是其伴生产物,也是重要的氟资源。高性能的非晶态硅、单晶硅、多晶硅、光纤等对四氟化硅气体纯度要求非常高,至少达到99.99%以上,而高纯SiF_4气体的制备技术掌握在少数发达国家手中,如美国、日本、俄罗斯等。近年来我国对高纯度SiF_4气体的制备工艺的研究有了发展,某些公司提出的标准甚至高于国外,但国内对SiF_4气体的检测方法报道较少。论文以氟硅酸溶液和浓硫酸为原料,制备SiF_4气体,然后再分别利用气