【摘 要】
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本论文研究了两种高纯水新技术EDI(Electrodeionization)和185nmVU(Vacuum Ultraviolet)来去除水中的弱离子化杂质.研究包括:第一部分,研究EDI去除水中弱离子化杂质(硅、硼、
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本论文研究了两种高纯水新技术EDI(Electrodeionization)和185nmVU(Vacuum Ultraviolet)来去除水中的弱离子化杂质.研究包括:第一部分,研究EDI去除水中弱离子化杂质(硅、硼、氨和CO<,2>)及其去除机理;第二部分,研究185nmUV降低高纯水的TOC(总有机碳,Total Organic Carbon)以及以4-CP(4-Chlorophenol,对氯酚)、4-NP(4-nitrophenol,对硝基酚)和Rh B(Rhodamine B,罗丹明B)为模型有机物研究185nmUV降解水中有机物的动力学及其降解机理.同时,还对半导体工艺中排放废气的治理及检测进行了研究.本研究在实际工艺应用,可制备低浓度硅、硼、NH<,3>、CO<,2>和TOC的高纯水,满足目前超大规模集成电路用水的要求.
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