植酸和AMT对铜缓蚀作用的电化学和光谱电化学研究

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植酸(IP6)又称环己六醇磷酸脂,是一种天然存在的有机磷酸类化合物。广泛存在于植物的种子内。因其无毒且具有抗氧化性和抗腐蚀性,被广泛应用于食品、医药和日用化工等行业。同时也是一种罕见的多齿金属螯合物,可在较宽的pH范围内与多种金属离子形成稳定的络合物,是一种新型的环境友好型缓蚀剂。五元杂环化合物2-氨基-5-巯基-1,3,4-噻二唑(2-amino-5-mercapto-1,3,4-thiadiazole, AMT),常作为化学中间体,广泛应用于医药和农药的生产中,由于其独特的结构,AMT也作为新型缓蚀剂,多用于古代青铜文物的保护。本课题采用光谱电化学研究这两种缓蚀剂对铜缓蚀作用,结合循环伏安法(CV)、交流阻抗法(EIS)以及循环伏吸法(CVA),研究两种缓蚀剂的最佳缓蚀条件,探讨缓蚀机理。首先采用电化学和光谱电化学方法研究植酸和AMT在中性介质Na2SO4中的缓蚀作用。铜电极在0.4mol·L–1Na2SO4中的CV曲线显示,铜电极在电势扫描的范围内只有一个氧化峰和相对较小的还原峰,在氧化峰之后出现明显的钝化区。采用循环伏安法获得不同pH值和缓蚀剂浓度下的缓蚀效率,结果表明:当植酸的浓度为0.01mol·L–1,溶液pH7时缓蚀效果较佳;AMT浓度为0.004mol·L–1,溶液pH7时缓蚀效果较佳。Tafel曲线法也支持这一结果。恒电势电解条件下的动态UV-vis光谱图表明,在Na2SO4介质中铜电极生成的二价铜离子产物,可以通过化学转化转变成相对稳定的状态。铜电极在Na2SO4中的CV曲线上的小阴极峰应是铜表面氧化亚铜膜的还原峰。进一步在NaOH溶液中,采用CVA方法研究植酸钠对铜的缓蚀作用机制。CVA能够原位监测金属电化学反应过程中腐蚀产物的形成与转化,这对于了解金属腐蚀过程的机理是非常必要的。结合采用CV和CVA,可以同时测得电势依赖性电流和吸光度,而后者与吸光性物质的特征吸收波长有关。为此采用以铜片为工作电极的长光程薄层电化学光谱池,实时监测不同电势下亚铜和二价铜可溶性产物的生成和转化,同时采用常规的电化学池测定循环伏安图和交流阻抗图,采用场发射扫描电子显微镜表征被腐蚀的铜电极表面形貌。研究表明,在0.1mol·L–1的NaOH溶液中植酸对铜的缓蚀效率能达到大约90%左右;植酸可以促进高度不稳定的可溶性中间产物亚铜离子的生成,而对二价铜离子的生成具有很强的抑制作用,此二价铜离子是由最初的氧化亚铜薄膜层通过孔腐蚀而生成的。植酸根离子使亚铜钝化膜得以保持完整,从而强烈抑制了二价铜离子腐蚀产物的生成。结果表明,基于长光程薄层电化学池的循环伏吸法,对研究含有吸光性离子的金属腐蚀过程来说是一种新颖有效的方法。
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