二元光学是微光学的的重要组成部分，是光电技术相互渗透的前沿学科。随着微光机电应用系统的发展，对二元光学元器件提出了微型化、阵列化与集成化的设计制作要求。现常见的二元光学设计、制作研究多为针对单个元件或阵列开展。为适应集成化应用的需要，同时考虑到与微机械微电子工艺兼容，需要探索一种适合多个二元光学元件同时制作，即二元光学组件级制作工艺。为实现二元光学组件级制作，本文研究了基于DMD虚拟掩模的横向加法工艺制作二元光学元件的元件制作模型建立方法。以一维减法器组件中各元件制作模型为例，完成了元件制作模型的构建，通过数字仿真，验证了所建模型的正确性。本文完成的主要研究工作是：在剖析二元光学组件研究价值和横向加法工艺的基础上，提出了满足基于DMD虚拟掩模的横向加法工艺制作二元光学元件的制作模型的要求。以二元光学一维减法器组件为例，根据元件设计模型，建立了一维减法器组件中各元件的制作模型，分析了模型量化误差，利用所建元件的制作模型对一维减法器组件功能进行了数字仿真，获得预期效果，证明了所建模型的正确性。搭建了基于DMD虚拟掩模的光固化微快速成型的实验系统，针对一种具体的光敏树脂研究了的微光固化快速成型主要工艺参数。利用所研究的一维减法器元件制作模型和微光固化成型工艺参数，对二元光学一维减法器组件进行实验制作，获得了一定的成功。本文的研究说明了所建二元光学元件制作模型的有效性和微光固化成型制作二元光学组件的可行性。