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当前信息化时代,各类无线通讯技术及电子数码产品的出现为我们生活带来了极大的便利,但在人们使用这些电子产品的同时,由于电磁波辐射对人体及周围环境造成的危害也不容忽视,因此电磁辐射与防护技术成为当下科研工作者们的研究热点。吸波薄膜材料具有占用空间小、重量轻、可通过灵活调控薄膜成份改变薄膜的吸波特性,并可通过成份渐变或梯度化膜系结构设计满足阻抗匹配特殊要求,所以该类材料在GHz频段具有极为广阔的应用前景。电磁波吸收材料的吸收效能是吸波体磁特性与介电特性共同作用的结果,所以一般要求材料既有较大的复数磁导率,特别是虚部要尽可能大,又要有较低的介电常数实部,以达到良好的阻抗匹配效果,这样才能保证入射电磁波作用在吸波材料表面时,绝大部分电磁波能够顺利入射到吸波体内部,通过薄膜的耗散作用吸收其能量,达到衰减甚至完全屏蔽电磁波的目的。本文采用磁控溅射双靶共溅射镀膜技术,以聚酰亚胺（PI）为基底,在其上沉积FeCoB-SiO2纳米复合薄膜,开展了成分变化及工艺条件变化对薄膜物理性能和电磁波吸收性能的影响规律研究。采用X射线光电子能谱仪（XPS）、X射线衍射仪（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）、原子力显微镜（AFM）等测试手段对薄膜成分、微观结构组织及形貌进行了表征及分析,运用振动样品磁强计（VSM）、矢量网络分析仪（VNA）结合短路微带线测试法对薄膜的静态磁性能与电磁波吸收性能进行了研究。研究结果表明:提高溅射功率对FeCoB与SiO2薄膜沉积速率的影响规律均满足线性递增变化规律,制成的FeCoB与SiO2薄膜成分均与其靶材成分或化学计量比接近,薄膜结构均为非晶态组织,薄膜生长致密,截面均可观察到细微的柱状结构。当复合薄膜中FeCoB与SiO2体积比由0.9:0.1逐渐降低至0.4:0.6时,即随FeCoB-SiO2复合薄膜中磁性介质体积分数的减小,薄膜的复数磁导率及电磁波吸收性能逐渐降低,体积比0.7:0.3应是FeCoB-Si O2复合薄膜具有明显吸波性能的临界值。在不同体积比FeCoB-SiO2复合薄膜中通过在FeCoB靶材表面粘贴不同数量纯Fe片改变Fe与Co的比例,可在一定程度上提高薄膜的复数磁导率和复合薄膜的吸波性能,如FeCoB-SiO2体积比为0.9:0.1时,随Fe片数量的增加,复合薄膜的共振频率fr向高频方向移动,吸波带宽与吸波性能均有提高,吸波效率达到90%以上的初始频率在1.5 GHz左右,共振频率最高可达到2.34 GHz。在复合薄膜沉积过程中,偏置磁场的施加可显著影响复合薄膜的面内单轴各向异性,进而改变薄膜的吸波性能,如将偏置磁场强度由180 Oe提高到380 Oe,FeCoB-SiO2（体积比为0.9:0.1）薄膜的共振频率可由前者的2.7 GHz提高到后者的4.1 GHz,显示强偏置磁场作用下复合薄膜的高频吸收特性显著增强。