论文部分内容阅读
Al-Ni合金具有高熔点、低密度、高热导率、良好的抗腐蚀及抗氧化性等优点,被广泛的应用在航天航空、民用加工、船舶制造等行业。随着电子信息技术高度的发展,微电子器件愈加小型化,合金薄膜被广泛的应用在集成电路和电阻网络中,以限制电路中的电流、电压、调节时间常数等,尤其是ICF低温工程与技术的进一步深入,对合金薄膜的低温物理性能提出了更高的要求。为此,Al-Ni合金薄膜的低温热电性能逐渐引起国内外的重视。本文采用多靶磁控溅射法制备Al_(1-x)Ni _x合金薄膜,研究了不同制备工艺参数的合金薄膜,利用S