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金刚石膜具有高硬度、低的摩擦系数、高的导热率、高弹性模量及优良的抗磨损、抗腐蚀和化学稳定性等性质。良好的机械性能和化学性能使得金刚石膜在机械、电子、光学等许多工业领域有着广泛的应用。随着金刚石膜应用的日益扩大,金刚石膜的高效抛光成了一个亟需解决的难题。在本课题组已有的研究基础上,本论文研究金刚石膜化学机械法抛光的工艺和机理,详细实验并分析了压力、温度、氧化剂、抛光转速、添加剂、预处理等因素对抛光效果和效率的影响。 本文根据研究需要设计了一套基于化学机械法抛光原理的抛光装置,