脉冲激光沉积法制备CMR薄膜及其特性研究

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本文首先详细分析了在脉冲激光沉积(PLD)过程中激光对靶的烧蚀特性,同时考虑了激光光束的Gauss分布,靶的有限尺寸以及相变、对流和辐射造成的热损耗,采用有限差分法对激光烧蚀靶过程的温度场进行了数值模拟。选用La2/3Sr1/3MnO3靶材,计算得到了表面及内部的温度分布,同时得到了沉积大面积均匀薄膜所需要的激光能量密度应该为2-5 J/cm2,这一结论为PLD技术制备高质量的氧化物薄膜提供了理论依据
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