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半导体和微机电等产业的迅速发展都对研发出能提高并打破常规衍射极限的光学显微技术以满足测量需求提出了迫切的要求。散射场显微测量技术是目前世界临界尺寸测量研究的热点,主要解决半导体加工、微机电等行业在线、非接触、快速尺寸测量。散射场测量是一种基于模型的对比测量方法。采用严格耦合波分析算法对一维微纳米周期结构散射测量进行正向光学建模,它在光栅区域严格地求解麦克斯韦方程,将麦克斯韦方程的求解问题化为一个求特征函数的问题,得到光栅区域由特征函数耦合起来的电磁场表达式,再在光栅区域与其他区域的交界面上求解边界条