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本文使用正电子湮没技术,对WOx气敏材料和ZnO/Metal/ZnO金属介质多层膜做了系统地研究,分析了样品的实验数据,并得到一些有意义的物理结论。在完成实验分析的同时,作者还对ZnO/Metal/ZnO金属介质多层膜做了理论设计,以获得400至700纳米可见光波段内的高透过率的膜系。1. WOx气敏材料的正电子研究利用热丝化学气相沉积法(HFCVD),通过逐步改变热钨丝的温度,制备了一系列WOx纳米结构薄膜的样品。样品的形貌和沉积率由扫描电子显微镜观察,发现WOx纳米结构的