纳米压印技术是20世纪90年代中期由华裔科学家周郁教授提出的一种复制压印印章表面纳米尺度图案的技术,有着工艺灵活,加工速度快,生产成本低,产量高等优点,受到了各国工程师与科学家的广泛关注。且每年都会有新的技术进展和研究突破,成为学术界的研究热点。纳米压印技术可分为热压印,紫外压印,微接触压印等,都需要压印模板,本论文主要工作是基于多孔氧化铝进行纳米压印模板的研究和制备,采用99.99%的纯铝进行二次阳极氧化,通过调节氧化电压,反应温度,反应时间实现了孔径可控的多孔氧化铝的模板,孔径50~80nm,孔距100~135nm,并用此模板进行纳米压印,得到结构规整的纳米柱,柱直径约80nm,柱之间距离130nm,基本符合多孔氧化铝模板的图案,在对于2英寸的多孔氧化铝模板进行纳米压印会出现部分孔洞图案无法进行压印转移的现象,纳米柱高度有浮动,表面平整度不理想,因此提出一种新的纳米压印模板制备方法,在硅片上镀铝然后进行二次阳极氧化,得到孔径100nm,孔距144nm的多孔结构图案,由于在硅片上镀铝进行的二次阳极氧化,孔洞的表面平整度得到了很好的解决,通过对此模板进行纳米压印得到的扫描电镜图片进行分析,发现得到的纳米柱高低一致,有很好的规整性和平整度,同时会有部分区域的图案有脱胶的现象。实验结果显示,利用多孔氧化铝模板进行纳米压印,图案可以较为完整的进行转移,压印出来的纳米柱表面平整度好,规整性基本符合模板的孔洞排列,部分区域的图案有脱胶现象,与模板孔洞的垂直型和纳米压印防粘工艺有关。