磁控溅射制备二氧化硅薄膜的激光损伤研究

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高功率激光系统中光学元件较多,并且系统中激光能量较大,因此会在激光系统中产生杂散光。杂散光经过会聚后能够达到很高的能量密度,造成系统中金属结构和光学元件的破坏。破坏产生的污染物会沉积在光学元件和其他结构表面上,导致光学元件等在较低的激光能量密度的条件下发生破坏,影响光束的传输质量和激光系统的综合性能。为了吸收高功率激光系统中的杂散光,将黑玻璃放置在杂散光出现的位置;并对铝合金支撑结构进行微弧氧化处理,减少铝合金表面的反射率,以达到吸收杂散光的目的。为了提高黑玻璃和微弧氧化涂层的抗激光损伤能力,在黑玻璃和微弧氧化涂层上制备一层二氧化硅保护薄膜。本文通过有限元分析方法,对黑玻璃和镀膜后的黑玻璃进行了激光辐照作用仿真,分析了温度和热应力所引起的破坏作用和变化规律,并计算了激光损伤阈值;建立了含杂质薄膜模型,仿真杂质引起的激光破坏作用,分析了杂质的破坏影响;对铝合金微弧氧化涂层和复合薄膜进行激光损伤仿真,计算了损伤阈值大小。通过仿真发现不含杂质等缺陷的二氧化硅薄膜能够提高它们的抗激光损伤能力。然后采用中频反应磁控溅射技术在黑玻璃上制备了二氧化硅薄膜,检测了薄膜的形貌、厚度和成分;并对制备的薄膜和黑玻璃进行了激光损伤测试实验,计算了激光损伤阈值,比较了镀膜前后的损伤阈值大小,观察了样品的激光损伤形貌,分析了产生破坏的原因。采用中频反应磁控溅射技术在微弧氧化涂层上制备了二氧化硅薄膜,然后采用不同的激光能量密度对铝合金微弧氧化涂层和复合薄膜进行了多次辐照。通过比较激光辐照时产生的粒子个数发现二氧化硅薄膜能够使微弧氧化涂层的抗激光损伤能力提高。
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