背景：偏头痛是一种临床常见的具有反复发作性的原发性头痛,其临床症状给患者生活与工作造成了严重不良影响。既往研究显示,针灸治疗偏头痛的临床疗效肯定。足临泣穴是偏头痛针灸治疗中的常用取穴,该穴对偏头痛的治疗有较好疗效,在临床实践中被广泛应用。功能核磁共振成像技术为针灸治疗偏头痛的疗效机制研究提供了技术手段,在既往研究中已取得一定的研究成果。基于皮层的局部一致性分析方法,是针对大脑皮层进行的局部一致性计算,能够提高试验数据的计算精细度,得到更精确可靠的试验结果。目的：以无先兆偏头痛患者为研究对象,应用功能磁共振成像技术及基于皮层的局部一致性分析方法,观察比较偏头痛患者及健康受试者在静息态与针刺足临泣穴的即刻效应下皮层局部一致性表现特征,分析偏头痛患者大脑皮层的局部一致性特征,探讨针刺足临泣穴对偏头痛患者大脑皮层功能活动的影响。方法：本研究共纳入受试对象20例,其中无先兆偏头痛患者10例,性别年龄匹配的健康受试者10例。对两组受试对象进行静息状态、针刺双侧足临泣穴即刻状态及结构像的功能磁共振扫描。应用FreeSurfer软件包对受试对象成像数据进行皮层分割提取,使用AFNI-SUMA转换得到标准皮层空间模型,在SPM8等软件包的数据预处理基础上,应用局部一致性分析方法,比较无先兆偏头痛患者与健康受试者在皮层局部一致性上的表现差异,分析针刺足临泣穴的即刻效应对二者大脑皮层局部一致性的影响特征。结果：静息态下,与健康受试者相比,无先兆偏头痛患者在右侧枕中回、枕上回、楔叶、楔前叶及矩状裂周围皮质的大脑皮层局部一致性减低,在双侧眶部额上回、眶部额中回、内侧眶部额上回、直回、左侧内侧额上回及右侧眶部额下回的大脑皮层局部一致性增强。针刺足临泣穴的即刻效应中,无先兆偏头痛患者针刺后较针刺前在左侧额中回、额上回、三角部额下回的皮层局部一致性减低,健康受试者针刺后较针刺前在左侧额中回、额上回、中央前回的皮层局部一致性减低,二者均为未显示局部一致性增强的区域。交互效应分析显示针刺足临泣穴对二者皮层局部一致性影响具有差异的脑区为右侧舌回。结论：相对于健康受试者,无先兆偏头痛患者静息态的大脑皮层局部一致性在右侧枕叶皮层及双侧前额叶皮层表现出异常。针刺足临泣穴的即刻效应中,偏头痛患者与健康受试者在背外侧前额叶皮层表现出局部一致性减低的共性。而针刺足临泣穴对二者的右侧舌回皮层局部一致性具有差异性影响。