Fe-N化合物作为一种典型的磁性材料,它具有极其丰富的磁学性能,比如有较好的抗氧化性、耐磨性、抗腐蚀性等。Fe-N化合物是根据它们的氮原子含量来划分的,几种常见的Fe-N化合物有:ε-Fe_xN（2≤x≤3）、ξ-Fe₂N、γ′-Fe₄N、α′′-Fe₁₆N₂。不同的Fe-N化合物它们的微观结构、电子特性和磁学性能也有所不同。本文主要应用磁控溅射和高温氮化的方法来制备Fe-N薄膜,主要研究了不同的氮化时间和不同的掺杂浓度对Fe-N材料的微观结构、表面形貌和组份特性等性能的影响。对于未掺杂Fe-N化合物样品,我们通过控制不同的氮化时间来研究其基本特性。发现在氮化1小时的时候,样品有三个晶面的衍射峰,分别是立方相的γ′′-（111）晶面、六角相的ε-（111）晶面和ε-（002）晶面,说明得到的为多晶薄膜样品,并且样品呈颗粒状。随着氮化时间进一步地增长,在氮化3小时的时候,发现样品的六角相和立方相都分别只有一个衍射峰,说明样品为单一取向,此时制得的样品质量较好,而且形成了薄膜结构。对于Ga掺杂Fe-N化合物样品,我们通过控制不同的掺杂浓度来研究其基本特性,其中掺杂浓度是通过调节溅射的射频功率来控制的。在掺杂浓度较低的时候,样品有两个晶面的衍射峰,分别是立方相的γ′′-（111）晶面和六角相的ε-（002）晶面,并且样品的颗粒尺寸较大。随着射频功率的增加即掺杂浓度的提高,样品就只有一个立方相的衍射峰,并且相较掺杂浓度较低时制得的样品表面颗粒形貌要小很多,说明制得的样品质量较好。通过研究不同的氮化时间和掺杂浓度对Fe-N化合物的影响,明确了不同参数制备出的Fe-N化合物其微观结构和表面形貌等特性,为Fe-N化合物进一步的研究提供了实验依据。