液晶盒厚即液晶层的厚度。在生产过程中,由于工作人员的操作不当造成液晶盒厚度不均匀,从而无法达到特定的显示模式。所以,精确的测量液晶盒厚度至关重要。当然,不只是因为要计算液晶盒的厚度而需要实际测量PI层和ITO的膜厚。实际上精确测量这些薄膜厚度不仅对工艺控制、材料分析有重要作用,对了解器件与材料等关系也非常重要。本论文研究了一种新型的LCD厚度/薄膜厚度以及折射率测量技术。不同与多数的激光光源,该方法入射光源为白光。现有的光谱仪主要用于测试反射光谱、反射率等特性曲线。计算过程中,通过对反射光谱的分析研究,最终得出被测液晶盒厚度、薄膜厚度和薄膜折射率。不同与以往的区域均匀度测量,本方法可以做到单点测量,测量过程简单,测量时间短暂。在薄膜折射率未知的情况下,测量薄膜厚度和折射率要求光线能够斜入射到薄膜表面。而现有的光纤光谱仪只能实现光线垂直入射。本论文完成了光谱仪硬件电路的制作,为以后薄膜厚度测量和折射率测量奠定了基础。系统重点是基于ARM的线阵CCD数据采集系统的电路设计,也包括支持系统运行所需的软件。首先提出了系统的总体设计方案。整个系统分为三个模块:CCD驱动模块,对微处理器进行编程产生CCD的驱动脉冲及同步控制信号;输出信号经差分预处理后,由高精度模数转换模块进行采样,将CCD输出的模拟信号转换成数字量;最后,将数据送入ARM处理系统中进行后续处理。在系统硬件电路调试通过的基础上,编写了系统运行所需的软件,并进行了软件测试。