聚变堆中面向等离子体钨涂层的制备及其性能研究

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通过使用国内不同型号的大气等离子体喷涂设备,采用等离子体球化技术对普通商业钨粉进行球化,球化过程中利用水冷系统收集钨粉,研究了等离子球化功率等因素对钨粉性能的影响,最终把球化后钨粉制备钨涂层。研究结果表明采用SULZERMetco-7MC喷涂设备球化的钨粉综合性能最佳,等离子球化普通钨粉所制得的钨粉具有球形度较高、流动性能较好、氧含量增加不大等特点。当球化功率为25kW时,球形钨粉的流动速度为5.9s/50g,氧含量为0.095wt%。以球化钨粉经还原处理后为原料,所制备出的涂层与普通钨粉相比性能有了较大的提高。此外加入不同的梯度过渡层可制备出性能较好的钨涂层,与不加入过渡层相比,涂层在致密度、热导率、结合强度等性能有了较大的提高。采用冷动力喷涂法以钨和钨-镍-铁合金为原料在铜合金基体上制备了钨涂层和钨镍铁合金涂层。其中研究了冷喷涂过程中钨粉粒径、喷涂距离等因素对涂层性能的影响。用扫描电子显微镜等手段分析了涂层的表面、断面微观结构,并用原子力显微镜测量了涂层的粗糙度。此外,本文计算了冷喷涂过程中粉末颗粒的实际速度,并采用有限元分析软件ANSYS/LS-DYNA模拟了冷喷涂过程中颗粒撞击基体时的变形情况。当采用D50分别为2、7μm,喷涂距离为10~15mm时可在基体上制备出厚度为2μm的均匀、致密、结合强度较高的钨涂层,无明显氧化。当采用粉末粒径D50分别为2、7μm的W-Ni-Fe合金,可在基体上制备出厚度达80μm的均匀、致密、结合强度较高的涂层,涂层无明显氧化。根据模拟计算钨的临界速度为580m/s,钨颗粒在喷涂过程中速度为722.1~794.8m/s。采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)的方法以羰基钨为前驱体在CuCrZr合金和低活化钢上制备了钨涂层,并且在实验过程中对沉积设备进行了改造。当沉积温度在270~600℃,羰基钨升华温度在90℃左右,最终在CuCrZr合金和低活化钢上制备了β-W。经实验证实沉积温度是影响钨涂层最终性能最重要的一个因素,当沉积温度为500℃时能制备出性能较优的涂层,经一定温度700~800℃条件下进行退火,涂层由β-W向a-W转变,即由介稳状态相转变为稳定相。此外,以CuCrZr合金为基体制备的涂层比低活化钢上制备的钨涂层在厚度、结合性能等方面较优。
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