巯基噻唑衍生物修饰金电极的制备与应用研究

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本文采用循环伏安法(CV)、交流阻抗法(EIS)及扫描电子显微镜(SEM)等方法,研究了2-羟基-4-甲氧基苯甲醛(HMB)、2-巯基-1,3,4-噻二唑(MTD)、2-氨基-5-巯基-1,3,4-噻二唑(AMTD)和5-巯基-1-甲基四唑(MMT)自组装修饰金电极的制备及其电化学特性,探讨了修饰条件及电化学反应条件对修饰电极电化学行为的影响。1.采用扫描电子显微镜表征了HMB、MTD、AMTD和MMT修饰金电极的表面形貌,结果表明修饰剂在金表面形成了较均匀的自组装修饰膜。2.采用循环伏安法比较了裸
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