基于MCM-41的铑离子表面印迹聚合物的制备及其对低浓度铑的吸附性能研究

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铑是一种重要的贵金属元素,由于良好的物理和化学性质,铑在很多的领域都有着极其重要的作用。但是我国的铑资源十分紧缺,在各个矿山的含量都非常稀少,因此为了提高铑资源的利用效率,对各种含铑废液中微量的铑资源进行分离、富集、回收就显得越来越重要。近年来,离子印迹技术发展的很迅速,这是一种新型的分离技术,其显著特点就是有着优异的选择性,能够有针对性的分离回收目标离子。本文运用离子印迹技术,并结合介孔分子筛优异的吸附性能,成功合成了两种表面离子印迹聚合物,系统的探究了对低浓度铑的吸附分离性能。本文的主要研究内容如下:1、首先采用水热法制备出MCM-41,并对其进行一系列表征。得出自制MCM-41的比表面积为1013.5 m~2/g,总孔容为0.834 cm~3/g,平均孔径为3.290 nm。对MCM-41吸附铑离子的过程进行了一系列的单因素条件优化。在最佳条件下,MCM-41对铑离子的最大吸附率为97.5%,饱和吸附量为33.575 mg/g。对吸附过程进行研究表明,该吸附是自发过程,符合准二级动力学模型和Freundlich模型。洗脱和再生实验表明,MCM-41拥有良好的吸附稳定性,可以多次使用。2、以MCM-41作为基体,丙烯酰胺(AM)为功能单体,合成了铑离子表面印迹聚合物Rh-IIP-AM/MCM-41和相应的非印迹聚合物NIP-AM/MCM-41,并进行红外、扫描和透射电镜等一系列表征。经过吸附剂用量、吸附时间、吸附温度、溶液pH等一系列的单因素条件优化,得出在最佳条件下,Rh-IIP-AM/MCM-41对铑离子的最大吸附率为67.48%,饱和吸附量为22.216 mg/g,而NIP-AM/MCM-41对铑离子的最大吸附率为45.36%,饱和吸附量为15.138 mg/g。对吸附过程进行研究表明,该吸附是自发过程,符合准二级动力学模型和Langmuir模型。探究吸附剂的选择性,结果表明,Rh-IIP-AM/MCM-41对铑离子有着良好的选择性,而相应的NIP-AM/MCM-41对铑离子的选择性则要逊色很多。对吸附剂进行洗脱和重复使用性能研究表明,Rh-IIP-AM/MCM-41具有良好的吸附稳定性,可以循环利用。3、分别以MCM-41和甲基丙烯酸(MAA)作为基体和功能单体,合成了铑离子表面印迹聚合物Rh-IIP-MAA/MCM-41和相应的非印迹聚合物NIP-MAA/MCM-41,并进行红外、扫描和透射电镜等一系列表征。经过一系列的单因素条件优化,得出在最佳条件下,Rh-IIP-MAA/MCM-41对铑离子的最大吸附率为71.42%,饱和吸附量为25.166 mg/g,而NIP-MAA/MCM-41对铑离子的最大吸附率为50.16%,饱和吸附量为17.824 mg/g。研究表明,该吸附是自发过程,准二级动力学模型和Langmuir模型能更好的描述该吸附过程。吸附剂的选择性研究得出,相比于NIP-MAA/MCM-41,表面印迹聚合物Rh-IIP-MAA/MCM-41对铑离子有着更为优异的选择性。对洗脱和重复使用性能的探究表明,Rh-IIP-MAA/MCM-41有着很好的重复使用性能。
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