【摘 要】
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SiO_2抛光液是使用最早和最广泛的抛光液，虽然具有低制备成本、易制备、高选择性等优点，但是其低抛光速率及不能对多层布线中SiO_2介质进行抛光的不足，限制了其应用范围。如果将SiO_2与CeO_2复合，制备SiO_2／CeO_2复合磨料抛光液，有望解决上述问题，从而扩展SiO_2作为抛光磨料的应用范围。同时，由于抛光液的稳定性能对其储存、运输以及抛光质量等有着重要影响，本文系统研究了SiO_2／
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SiO_2抛光液是使用最早和最广泛的抛光液，虽然具有低制备成本、易制备、高选择性等优点，但是其低抛光速率及不能对多层布线中SiO_2介质进行抛光的不足，限制了其应用范围。如果将SiO_2与CeO_2复合，制备SiO_2／CeO_2复合磨料抛光液，有望解决上述问题，从而扩展SiO_2作为抛光磨料的应用范围。同时，由于抛光液的稳定性能对其储存、运输以及抛光质量等有着重要影响，本文系统研究了SiO_2／CeO_2复合微粒的合成及其水相体系分散稳定性能，探讨获得分散稳定的低浓度SiO_2／CeO_2化学机械
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