Mo/Al和Mo/SiO<,2>/Al/SiO<,2>软X射线光学多层膜的结构和热稳定性

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【摘要】

：

基于循环光学理论模型,计算了应用在18.5 nm附近的理想Mo/Al软X射线光学多层膜的正入射反射率,发现反射率对周期厚度Λ,层厚比Γ以及周期数N非常敏感,并存在一个使反射率最大的Λ和Γ值以及使反射率饱和的N值。设计的Mo/Al多层膜在该波长的反射率高于一直备受关注的Mo/Si多层膜。采用对向靶控溅射法制备了Mo/Al多层膜(Λ=9.5 nm,Γ=0.4,N=20),利用断面高分辨透射电镜对多层膜

【作者】

：

郭巧杭

【机构】

：

天津大学

【发表日期】

：

2004年12期

【关键词】

：

Mo/Al软X射线光学多层膜 SiO2嵌入层微观结构热稳定性

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