等离子体显示器在信息显示领域具有广阔的应用前景及市场，开展彩色PDP关键技术的研究对于提高PDP性能有着重要意义。在PDP制造过程中，老炼过程是介于显示屏加工完成和实现显示之间的一项非常重要的工序步骤。老炼能使PDP的各种放电特性稳定，并且易于驱动。而PDP中的MgO介质保护膜，由于直接和放电气体接触，对PDP的放电特性、显示效果和寿命等性能有重要的影响。因此，研究老炼对PDP的放电性能和MgO介质保护层的影响，对于提高PDP性能，降低PDP的成本和功耗，具有较大的实用价值。 本文首先建立了荫罩式PDP（SMPDP）实验屏的老炼系统和初步的老炼实验规范，研究了老炼过程对荫罩式PDP实验屏放电性能的影响。主要分析了SMPDP实验屏的静态放电电压特性、发光亮度、发光光谱和红外放电在老炼前后的变化。 本文还介绍了MgO介质保护层的制备工艺和其在PDP中的性能。经过长期研究总结，初步建立了MgO介质保护层的评价体系并介绍了各项性能的测试方法。 本文最后通过X射线衍射分析（XRD）和场发射扫描电子显微镜（FESEM）分析了SMPDP实验屏中MgO介质保护层在老炼后的薄膜晶体结构和表面形貌的变化。为了更方便深入研究MgO介质保护层的表面晶向在老炼后的变化，设计制作了一种大面积放电老炼实验屏，对其老炼前后的MgO介质保护层进行了掠入射X射线衍射（GIXD）分析和低压场发射扫描电子显微镜观测。总结了老炼前后MgO薄膜的表面晶向变化和表面形貌的变化。同时通过大面积放电的实验，观察到类似自组织放电的重要的实验现象。另外实验过程中对大面积放电区域能够测试到MgO介质保护层的荧光发光光谱，对于研究MgO的外逸电子发射特性有重要意义。