【摘 要】
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光学元件的抛光通常采用氧化铈粉。目前，氧化铈抛光粉的粒度通常为微米量级，限制了光学元件的抛光精度，而纳米抛光粉仍处于研制阶段。利用纳米金刚石薄膜抛光，有可能提高光学元件的抛光精度，而且还可以避免氧化铈粉抛光过程产生的工业污染。本文以金刚石薄膜应用于磨削抛光领域为目标，利用微波等离子体增强化学气相沉积(MPECVD)技术，通过在反应气体中添加N_2和Ar分别在Si衬底和柔性Cu衬底上制备出了纳米金刚
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光学元件的抛光通常采用氧化铈粉。目前，氧化铈抛光粉的粒度通常为微米量级，限制了光学元件的抛光精度，而纳米抛光粉仍处于研制阶段。利用纳米金刚石薄膜抛光，有可能提高光学元件的抛光精度，而且还可以避免氧化铈粉抛光过程产生的工业污染。本文以金刚石薄膜应用于磨削抛光领域为目标，利用微波等离子体增强化学气相沉积(MPECVD)技术，通过在反应气体中添加N_2和Ar分别在Si衬底和柔性Cu衬底上制备出了纳米金刚石薄膜；为提高金刚石薄膜与衬底间的结合力，本文在镀有Ti-Al-Mo的过渡层的C
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