随着我国科学技术飞速发展,对光学元件的要求越来越高。尤其是在非球面光学元件的抛光与研磨领域,非球面反射镜的制造技术遭遇加工瓶颈,传统加工方式在实际应用中难以满足现阶段的需求。为解决传统加工中元件加工精度低、表面质量差等问题,许多新型的光学加工手段应运而生。磁流变加工技术以其高确定性的加工方式在光学加工领域扮演着越来越重要的角色。而Ni-P合金镀层作为光学领域应用十分广泛的改性层,对于该种镀层光学加工方法的深入研究比较匮乏,许多还是采用传统的抛光工艺在进行加工。本文以实际工程对Ni-P合金镀层非球面快速低成本制造的需求为基础,对Ni-P合金镀层非球面磁流变抛光过程中的关键技术展开了研究,最终确定了Ni-P合金镀层非球面磁流变加工工艺流程,并实际完成了一块离轴非球面反射镜的加工,为Ni-P合金镀层非球面反射镜的快速低成本制造提供了相关技术支持。论文的主要研究工作包括:(1)对化学镀的定义及特点进行了简述,对化学镀Ni-P合金镀层的物理化学性质和沉积原理进行了分析,确定了适合应用于光学加工中镀层的磷含量及相关热处理工艺。介绍了实验室反射镜光学表面Ni-P合金镀层的制备方法;(2)研究了Ni-P合金镀层磁流变抛光的去除机理。介绍了经典抛光材料去除机理的几种基本理论,结合Ni-P合金镀层的材料特性研究了相关去除模型。为后续的研究打下理论基础;(3)选取了在磁流变抛光中对抛光效率及表面质量影响比较重要的几个参数如抛光轮转速、抛光粉浓度、抛光间隙及抛光时间,运用正交思想分别进行正交实验。又对磁流变抛光的边缘效应进行相关研究。最后对实验数据进行优化确定了非球面反射镜实际加工中的最优参数组;(4)进行Ni-P合金镀层非球面反射镜的实际加工。主要应用磁流变加工方式结合CCOS技术,经过纯工作时间21小时四轮磁流变加工后,工件面形由初始值(RMS)0.196λ降至0.024λ,由于SPDT加工带来的刀痕情况也大大改善,最终表面粗糙度值(Ra)为2.62nm,达到了光学抛光的要求,实现了高效率、高精度加工。