镁合金因其具有比强度高、质量轻、可铸性强、吸震能力强、导热和导电性能较好的优点,在汽车、航空、通信和便携式微电子学等领域有良好的应用前景。但镁合金的化学性质活泼,腐蚀电阻很低,容易受到氯离子的侵蚀,这成为了限制其应用的瓶颈。近年来,研究人员发现:层状双层氢氧化物（LDHs）具有独特的层状结构和层间阴离子可交换性,可以用于镁合金表面,减少镁合金与腐蚀液的接触,从而有效地提高其耐蚀性能。在LDHs材料中,ZnAl-LDHs材料的阴离子交换反应较容易发生,被广泛用作容器装载腐蚀抑制剂以提高镁合金的耐蚀性能。利用不同阴离子插层进入ZnAl-LDHs的层间,能够调控LDHs的形貌、层间距,并影响其耐蚀性能。为此,本论文以镁合金为衬底,分别制备了无机阴离子(NO₃^-、Cl^-、VO₄^3-、PO₄^3-和MoO₄^2-)插层的ZnAl-LDHs和有机阴离子（月桂酸（La）和天冬氨酸（ASP））插层的ZnAl-LDHs薄膜,采用SEM、EDS、XRD、FT-IR、电化学工作站等手段,系统探究了不同阴离子种类对ZnAl-LDHs薄膜的形貌、结构和耐蚀性能的影响。得出的主要结论如下:（1）用水热法在AZ31镁合金上制备了ZnAl-NO₃^--LDHs薄膜;通过离子交换获得不同阴离子(Cl^-、VO₄^3-、PO₄^3-和MoO₄^2-)插入的ZnAl-LDHs薄膜,其薄膜都表现出均匀致密的纳米片状结构,且NO₃^-、Cl^-、PO₄^3-、MoO₄^2-到VO₄^3-阴离子插层的薄膜厚度逐渐增加,薄膜越厚越有利于阻挡Cl^-的渗透。（2）通过极化曲线和EIS测试了不同阴离子插层的LDHs薄膜的耐蚀性能,其强弱顺序为:ZnAl-VO₄^3--LDHs>ZnAl-MoO₄^2--LDHs>ZnAl-PO₄^3--LDHs>ZnAl-Cl^--LDHs>ZnAl-NO₃^--LDHs。其中,ZnAl-Cl^--LDHs薄膜中Cl^-的存在可以减少外界Cl^-的渗透从而有效减缓腐蚀的发生。而PO₄^3-、MoO₄^2-和VO₄^3-阴离子插层的LDHs薄膜,通过吸收Cl^-和释放层间阴离子作为腐蚀抑制剂以减缓腐蚀,其耐蚀性均优于ZnAl-Cl^--LDHs。其中VO₄^3-阴离子插层的ZnAl-LDHs薄膜的基底间距d_（003）值最大,其吸收Cl^-和释放阴离子的能力最强,腐蚀电流(3.026×10^-7 A/cm²)比镁合金基底腐蚀电流(7.482×10^-5 A/cm²)小两个数量级,耐蚀性能最优。（3）采用水热法在镁合金衬底上原位制备了ASP和La插层的ZnAl-LDHs薄膜,两种薄膜都均匀致密地生长在镁合金表面,ZnAl-ASP-LDHs薄膜呈现出垂直生长的纳米片状结构,而ZnAl-La-LDHs薄膜则呈现出相互交错的倾斜纳米片状结构,更有利于阻挡Cl^-的侵蚀。La阴离子插层的ZnAl-LDHs的基底间距d_（003）值远大于ASP阴离子插层的ZnAl-LDHs,这说明ZnAl-La-LDHs薄膜具有更好的吸收Cl^-的能力。（4）ZnAl-ASP-LDHs薄膜表面的纳米片在腐蚀后溶解形成了致密的保护层,而ZnAl-La-LDHs薄膜表面的纳米片在腐蚀后变得更为垂直。ZnAl-La-LDHs薄膜的腐蚀电流密度(2.772×10^-7 A/cm²)优于ZnAl-ASP-LDHs薄膜(3.933×10^-7 A/cm²),两者均比镁合金基底(7.482×10^-5 A/cm²)的腐蚀电流密度低两个数量级,表明有机阴离子（ASP、La）插层的ZnAl-LDHs薄膜能够提高镁合金的耐蚀性,且ZnAl-La-LDHs薄膜的耐蚀性能更优。