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智能灌溉控制系统在现代农业管理中实现了作物的精确灌溉和智能控制，也符合水资源高效利用的要求。作物根区土壤水分上下限指标及土壤水分传感器埋设位置的研究为智能灌溉控制系统的决策提供了依据。
在前期试验研究的基础上，设置了三个灌溉水平处理，土壤含水率分别控制在75％～85％FC、70％～80％FC、65％～75％FC之间。在温室中进行了滴灌条件下不同灌溉水平对黄瓜生长、生理指标、光合、产量及品质的影响的试验研究。研究表明：在滴灌黄瓜幼苗期，土壤水分上、下限控制指标为75％FC、65％FC;结瓜期土壤水分上、下限控制指标为85％FC、75％FC。
通过对黄瓜根系分布特征和滴灌条件下黄瓜根区土壤含水率的变化规律的分析，初步给出了传感器在黄瓜根区的两种布置方案。其中，在垂直方向以地表以下5～10cm、20～30cm处为埋设传感器的最佳深度，40～50cm处为辅助埋设深度；在水平方向，传感器埋设在距滴头横向距离为10cm处为佳。