用于连续CVD装置的缝式喷嘴结构研究

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6.5%Si硅钢因其优越的磁性能在现代工业领域越来越多的被使用和发展。在众多制备6.5%Si硅钢工艺中,唯有化学气相沉积法(Chemical Vapor Deposition, CVD)得到了工业化应用。喷嘴是连续CVD法制备6.5%Si硅钢中的重要元件,其性能决定了带钢内部Si元素的分布情况,继而影响带钢的磁性能。本文提出了一种适用于连续CVD法制备6.5%Si硅钢工艺的喷嘴结构,利用数值仿真模拟和实验相结合的方式对喷嘴流场进行研究,并利用响应面法对喷嘴结构进行优化。对连续CVD法制备6.5%Si硅钢工艺中喷嘴的性能进行了分析,得到了喷嘴的设计要求;基于喷嘴性能要求,设计并提出了一种缝式喷嘴结构,对缝式喷嘴结构的性能和流场进行了定性分析;利用Fluent数值仿真软件对喷嘴内外流场进行了数值模拟仿真,利用热敏式风速仪对数值仿真模型和仿真结果进行验真,结果表明,仿真模型能够很好地模拟喷嘴流场分布,证明了利用数值仿真方法对喷嘴流场进行研究是可行的,实验结果和仿真结果表明在设计喷嘴结构下带钢表面速度分布比较均匀;对喷嘴结构参数以外其余CVD工艺参数对带钢表面速度分布的影响进行分析,得到了其余工艺参数的影响规律,对仿真模型进行了简化;通过部分因子分析和全因子分析得到了对带钢表面宽度方向速度分布均匀度有显著影响的结构参数,并利用数值仿真的方式得到了显著结构参数对带钢宽度方向速度分布均匀度的影响规律;基于响应面法对喷嘴结构参数进行优化分析,得到了显著因子与带钢表面宽度方向速度分布均匀度的回归方程,利用响应优化器对喷嘴结构参数进行优化;利用数值仿真和实验方法,对优化结构参数下带钢表面速度分布进行研究,分析仿真结果和实验结果表明,优化结构参数下带钢表面具有很好的速度分布均匀度,从而证明了该优化结果的准确性。
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