TiO2是人们公认的性能优异的光催化剂,它具有性质稳定、经济实惠、无毒等优点。但是YiO2在光催化降解污染物时,对太阳光的利用率较低,并且对污染物的降解率有限,这使得它的广泛应用受到了限制。因此,人们针对如何提高TiO2的太阳光利用率及提高光催化降解效率开展了大量研究。本文采用磁控溅射技术制备了Ti薄膜,研究制备过程中工艺参数：溅射压强、功率、时间对薄膜结构及形貌的影响。利用拉曼光谱(Raman)、X-射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)、扫描电子显微镜(SEM)等测试方法对薄膜结构和形貌进行表征。结果表明,磁控溅射法制备的Ti膜,在未经任何处理的情况下为非晶态Ti膜,并且当溅射功率为150W、溅射压强为1.0Pa、溅射1h时可制备出粗糙度较小、表面平整的Ti膜。分别采用退火氧化法和低温双氧水法对磁控溅射法制备的Ti膜进行后期处理,制备Ti02薄膜。对于退火氧化法,探讨了退火温度并结合制备Ti膜时的工艺参数对Ti02薄膜结构及表面形貌的影响。对于低温双氧水法,探讨了经预处理的Ti膜在前驱液中的沉积时间以及制备Ti膜时的溅射压强对YiO2薄膜结构及形貌的影响。研究表明,当退火温度为800℃C时,薄膜开始由锐钛矿型向金红型转变；将溅射功率为150W、溅射压强为1.0Pa、溅射时间为1h时制备的Ti膜在500℃空气气氛中退火可制备表面颗粒粒径较小的锐钛矿型YiO2薄膜。将溅射功率为150W、溅射压强为0.5Pa、溅射时间为1h时制备的Ti膜置于H2O2中预处理,然后在前驱液中沉积12h,后经退火处理后可制得高比表面积的锐钛矿型YiO2薄膜。利用甲基橙溶液作为待降解物,进行了YiO2薄膜的光催化性质研究。分别探讨了光源、甲基橙溶液的初始浓度以及Ti02薄膜的制备工艺参数对其光催化效果的影响。